![晶圓表面測量應(yīng)用開發(fā)背景]( "晶圓表面測量應(yīng)用開發(fā)背景")
說明：
現(xiàn)代半導(dǎo)體制造的目標(biāo)是為便攜式產(chǎn)品開發(fā)具有越來越小和更薄封裝的電子設(shè)備。實現(xiàn)這一目標(biāo)最重要的步驟之一是通過機(jī)械研磨工藝將加工后的硅晶片從背面減薄至 50μm 以下。為了避免應(yīng)力和亞表面損傷，這對表面粗糙度要求非常高，在最終研磨步驟中，該粗糙度可能在 1 nm Ra 的范圍內(nèi)。測量這一等級的表面粗糙度的常用方法是通過共聚焦顯微鏡 (CFM)、白光干涉儀 (WLI) 或原子力顯微鏡 (AFM) 進(jìn)行單點或是劃線測量。但這些儀器的缺點是對機(jī)械環(huán)境噪聲敏感，測量時間長。這里，我們將介紹一種新型的散射光測量方法，該方法能夠在不到 30 秒的時間內(nèi)測量直徑300 mm整個晶圓表面。除了粗糙度，傳感器還同時測量翹曲、波紋度和缺陷。同時將展現(xiàn)采用不同粒度研磨表面的測試結(jié)果分析。 晶圓表面加工工藝過程極小和高密度電子產(chǎn)品的趨勢需要先進(jìn)的工藝來滿足設(shè)備的厚度和熱性能規(guī)格。這意味著處理后的硅晶片必須從其原始厚度超過 700 µm 減薄至 50 µm 或更小。最常見且成本相對較低的減薄方法是通過機(jī)械去除殘余硅的背面研磨。晶片固定在多孔真空吸盤上，IC（集成電路）面朝下。砂輪的旋轉(zhuǎn)軸與晶片的旋轉(zhuǎn)軸離軸定位（距離是晶片的半徑）。卡盤呈略呈圓錐形的形狀，以很小的傾斜度使晶片變形，以確保砂輪在研磨過程中僅接觸晶片的一半。由于卡盤的旋轉(zhuǎn)和砂輪的同時旋轉(zhuǎn)，在晶片表面上產(chǎn)生了典型的螺旋劃痕圖案。根據(jù)砂輪的粒度以及轉(zhuǎn)速和進(jìn)給率等加工參數(shù)，這種機(jī)械沖擊是造成粗糙度、應(yīng)力和誘發(fā)亞表面損傷的原因。因此，現(xiàn)代晶圓磨床從粗砂輪開始，先是快速去除多余硅，最后使用小粒度砂輪進(jìn)行精細(xì)研磨。當(dāng)減薄至 50 µm 以最大程度地減少次表面損傷和應(yīng)力時，這個最終過程是絕對必要的。表面粗糙度通常應(yīng)在 Ra 當(dāng)前標(biāo)準(zhǔn)測量方法的局限性是砂輪與其大量單刀刃的相互作用，與硅表面經(jīng)歷不均...
說明：
工業(yè)機(jī)器人各軸系的水平偏差調(diào)整測量主題工業(yè)機(jī)器人的精準(zhǔn)程度直接依賴于每個軸系的調(diào)平情況測量任務(wù)工業(yè)機(jī)器人的各軸系的水平偏差調(diào)整測量不僅僅在生產(chǎn)線制造組裝結(jié)束時需要測試，在客戶現(xiàn)場安裝調(diào)整后同樣需要測試。根據(jù)測試結(jié)果，技術(shù)人員在客戶現(xiàn)場進(jìn)行調(diào)整并將誤差補(bǔ)償存儲到過程控制系統(tǒng)內(nèi)。解決方案將所有機(jī)械手的軸系放置到零位。配合訂制的2D雙自由度測量傳感器，可以采集該軸系在XY雙方向與工業(yè)機(jī)器人基座參考位上XY雙方向的角度偏差然后將此誤差補(bǔ)償存儲到過程控制系統(tǒng)內(nèi)。
說明：
溫控真空室測試衛(wèi)星框架部件的水平目標(biāo)在溫控真空室內(nèi)測試衛(wèi)星系統(tǒng)，溫度從零下30度到零上60度且為真空狀態(tài)。這樣極端的測試條件是為了復(fù)現(xiàn)真正宇宙環(huán)境下衛(wèi)星的工作條件測量任務(wù)衛(wèi)星各個單獨零部件之間相互水平姿態(tài)調(diào)整定義衛(wèi)星洐架零點位置為水平參考零點水平參考零點要在 ±0.001 mm/m 以內(nèi)解決方案為了各個不同系統(tǒng)之間的相互調(diào)平，雙zerotronic傳感器作為水平參考點（X/Y軸）傳感器安放在特制的安裝底座內(nèi)由于從衛(wèi)星到控制臺的數(shù)據(jù)傳輸距離較長，客戶自行設(shè)計了傳輸電纜。衛(wèi)星的每個系統(tǒng)都通過溫控真空室外的控制臺進(jìn)行控制。wyler訂制了相應(yīng)的測量軟件用于顯示XY雙方向的測量數(shù)據(jù)這個訂制軟件是基于wylerDYNAM這個軟件開發(fā)的）溫控真空室的總覽概貌WYLER Inclination sensor ZEROTRONIC
說明：
長期監(jiān)測暴露在外溫差變化較大的物體的水平 主題 雷達(dá)-安裝于露天荒野，日光直射，溫度驟變，如何保證雷達(dá)基座 水平的精度和可靠性，必須對雷達(dá)基座水平情況進(jìn)行長期連續(xù)的 監(jiān)控 每個高精密度的設(shè)備都對溫度變化敏銳。 溫度驟變會影響精密測量摧毀阻斷測量過程 測量任務(wù) 精密連續(xù)監(jiān)控雷達(dá)基座的水平情況 長期監(jiān)測暴露在外溫差變化較大的物體的水平 解決方案 控制溫度變化范圍 傳感器工作環(huán)境要在溫控系統(tǒng)下進(jìn)行 1)傳感器自身校準(zhǔn)在20°C 傳感器工作的環(huán)境溫度高于20度自動啟動降溫系統(tǒng)， 傳感器工作的環(huán)境溫度低于20度自動啟動升溫系統(tǒng) 2)傳感器出廠前經(jīng)過實驗室特殊溫度校準(zhǔn) 以下兩種方式可以實現(xiàn) 如傳感器工作溫度恒定在50攝氏度那么傳感器出廠前 就接受50°C的溫度曲線標(biāo)定 傳感器安放環(huán)境具有以下功能，即環(huán)境接收到的溫度驟變 對傳感器產(chǎn)生的影響是緩慢的，均勻分散到整個傳感器 解決方案
說明：
大壩的長期監(jiān)測項目測量任務(wù)對于長期監(jiān)測大壩的要求不斷增加的早期大壩壩體測試主要是進(jìn)行定期測量，但今天越來越多的大壩從設(shè)計開始就要求進(jìn)行永久監(jiān)控測量目標(biāo)對大壩傾斜的變化進(jìn)行長期監(jiān)測解決方案一個或多個ZeroMATIC傳感器安裝在水壩壩體上非常穩(wěn)固的部位。這些傳感器連接到一個數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)，用于數(shù)據(jù)存儲和數(shù)據(jù)傳輸。數(shù)據(jù)可在客戶自定義時間間隔內(nèi)發(fā)回監(jiān)測站。根據(jù)客戶測量需求ZeroMATIC 2/1的測量頻率可以設(shè)置為每小時采集一次數(shù)據(jù)ZeroMATIC 2/2的測量頻率可以設(shè)置為1Hz進(jìn)行測量